第二十屆全國光散射學術會議——報名持續(xù)進行中
第二十屆全國光散射學術會議將于2019年11月2-6日在蘇州召開。本次會議邀請了眾多國內外光譜技術的專家學者,交流光散射和相關光譜原理和技術相關的前沿問題,展示和共享中國在光散射領域所取得的新進展及成果。
HORIBA作為擁有200年光譜技術經驗的品牌,也將出席此次盛會,歡迎各位蒞臨展臺,領取精美禮品和儀器應用資料!
展會信息
時間:11月2-6日
地址:蘇州·同里湖大飯店
特邀報告嘉賓
1. Prof. Mischa Bonn,Max Planck Institute for Polymer Research
2. Prof. Nick Stone,University of Exeter
3. Prof. Yu Ting,Nanyang Technological University
4. 徐紅星院士,武漢大學
5. 劉冰冰教授,吉林大學
6. 任斌教授,廈門大學
會前講座
11月2日下午,大會邀請了國內外學者進行會前講座,分享光散射前沿領域應用及拉曼光譜基礎知識等內容,請參會的研究生和青年教師做好行程安排。
會議注冊
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HORIBA Scientific 致力于為科研及工業(yè)用戶提供先進的檢測和分析工具及解決方案,如:光學光譜、分子光譜、元素分析、材料表征及表面分析等先進檢測技術,旗下Jobin Yvon光譜技術品牌創(chuàng)立于1819年,距今已有200年歷史。
如今,HORIBA 的高品質科學儀器已經成為科研、各行業(yè)研發(fā)及質量控制的優(yōu)選,之后我們也將持續(xù)專注科研領域,致力于為用戶提供更好的服務。
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