在指甲蓋大小的芯片上布局幾十億個(gè)晶體管，集成電路是*的、人類迄今制造過(guò)的最復(fù)雜的產(chǎn)品之一，已成為衡量一個(gè)國(guó)家產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力和綜合國(guó)力的重要標(biāo)志。隨著芯片制程從微米時(shí)代進(jìn)入納米時(shí)代，逐漸達(dá)到半導(dǎo)體制造設(shè)備和制造工藝的極限，雜質(zhì)含量成為非常敏感的存在，對(duì)于產(chǎn)線的良率管理和提升成為半導(dǎo)體工業(yè)界面臨的重要挑戰(zhàn)！

賽默飛為半導(dǎo)體及相關(guān)行業(yè)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供多層次技術(shù)支撐，為客戶提供全方wei的分析方案，電感耦合等離子體光譜儀（ICP-OES）、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）、高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（HR-ICP-MS）、輝光放電質(zhì)譜儀（GD-MS），全面的產(chǎn)線為半導(dǎo)體痕量金屬元素分析保駕護(hù)航；全球領(lǐng)先的離子色譜（IC）可提供先進(jìn)的痕量離子態(tài)雜質(zhì)解決方案，挑戰(zhàn)離子檢測(cè)極限；更有氣質(zhì)聯(lián)用儀（GCMS）提供的潔凈空氣VOCs檢測(cè)方案、高分辨質(zhì)譜儀加持對(duì)半導(dǎo)體材料未知物定性定量的檢測(cè)等。從半導(dǎo)體材料、集成電路制造到封裝測(cè)試，賽默飛能為半導(dǎo)體制造過(guò)程的質(zhì)量控制提供穩(wěn)健可靠的分析方法，助力全面提升產(chǎn)品良率！

賽默飛全方wei的ICPMS技術(shù)，擁有從單桿到三重四極桿以及高分辨ICPMS全產(chǎn)品線平臺(tái)，具有差異化的干擾去除技術(shù)，提高生產(chǎn)力，廣泛用于半導(dǎo)體行業(yè)用材料的質(zhì)量控制分析，避免由樣品制備引起的污染。

晶圓表面VPD-ICPMS檢測(cè)方案

在生產(chǎn)制造過(guò)程中，常用氣相分解-電感耦合等離子體質(zhì)譜聯(lián)用（VPD-ICP-MS）方法檢測(cè)硅晶片純度，其純度要求在99.9999999% 以上。在高含量的酸和硅基體中，目標(biāo)檢測(cè)元素的含量非常低，賽默飛三重四極桿ICPMS可在多種分析模式之間進(jìn)行可靠切換，為所有分析物靈活提供最佳分析條件，具有高靈敏度和準(zhǔn)確性，對(duì)于檢測(cè)VPD樣品，能有效去除大量多原子離子干擾，得到更加精準(zhǔn)的結(jié)果。

濕電子化學(xué)品ICPMS檢測(cè)方案

大規(guī)模集成電路制造需要使用大量的超純水和高純度濕電子化學(xué)品，如硫酸、氨水、氫氟酸、鹽酸和雙氧水等，晶圓通常以傳統(tǒng)的“RCA Clean”標(biāo)準(zhǔn)清洗流程進(jìn)行，除了超純水外，需要用到清洗液以不同類型化學(xué)品和配比，清除相應(yīng)的污染物。賽默飛半導(dǎo)體ICPMS（單桿、三重四極桿、高分辨）解決方案可適用于半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室分析以及生產(chǎn)中制程化學(xué)品的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，適應(yīng)于不同純度級(jí)別試劑的測(cè)定，并避免由樣品制備引起的污染。

半導(dǎo)體材料檢測(cè)方案

GD-MS（輝光放電質(zhì)譜儀）是在雙聚焦高分辨質(zhì)譜的技術(shù)上，采用快速流輝光放電離子源，實(shí)現(xiàn)高純固體樣品直接分析的最佳工具，具有檢出限低、基體效應(yīng)小、制樣簡(jiǎn)單和全元素快速檢測(cè)的突出優(yōu)勢(shì)。針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)需求，可實(shí)現(xiàn)高純（≥5N）銅、鋁、鈦、鉭、鉬等高純?yōu)R射靶材中70種以上雜質(zhì)元素快速檢測(cè)；硅、碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）等基材從原料至晶圓的全元素雜質(zhì)檢測(cè)；SiC等外延片鍍層化學(xué)成分及雜質(zhì)含量分布。

賽默飛先進(jìn)的離子色譜和相關(guān)技術(shù)能為高純水痕量陰陽(yáng)離子分析提供離線和在線監(jiān)測(cè)方案，為電子級(jí)高純?cè)噭┲衟pb-ppm級(jí)陰離子和百分比級(jí)混酸的含量提供檢測(cè)方案，并為半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)境空氣中痕量陰陽(yáng)離子的分析提供解決方案。

濕電子化學(xué)品譜睿技術(shù)檢測(cè)方案

以高純氫氟酸檢測(cè)為例，SEMI推薦賽默飛的譜睿二維方案，一維色譜中使用排斥柱將氟離子和其他常見(jiàn)陰離子預(yù)分離，通過(guò)調(diào)節(jié)保留時(shí)間窗口，將高濃度的氟離子排到廢液中，其他陰離子被選擇性濃縮富集，富集的陰離子部分在二維色譜中通過(guò)離子交換方式實(shí)現(xiàn)分離檢測(cè)，實(shí)現(xiàn)對(duì)高純氫氟酸中痕量陰離子雜質(zhì)的檢測(cè)。

超純水在線監(jiān)測(cè)方案

半導(dǎo)體級(jí)超純水生產(chǎn)過(guò)程中，傳統(tǒng)分析方法往往需要離線采樣，賽默飛提供Integral在線離子色譜方案，通過(guò)多位點(diǎn)自動(dòng)采樣、濃縮和分析的監(jiān)測(cè)，實(shí)現(xiàn)對(duì)超純水中多種陰陽(yáng)離子污染物24H/7D在線監(jiān)測(cè)，為集成電路生產(chǎn)穩(wěn)定高效運(yùn)轉(zhuǎn)提供保障。

△賽默飛離子色譜過(guò)程實(shí)時(shí)監(jiān)控分析-Integral

光刻膠中鹵素含量測(cè)定

(在線燃燒離子色譜法)

光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻精度至關(guān)重要，其樣品狀態(tài)粘稠，含有樹(shù)脂、單體、光引發(fā)劑等復(fù)雜基質(zhì)，無(wú)法直接進(jìn)樣分析。對(duì)于光刻膠及相關(guān)材料中痕量鹵素的檢測(cè)，賽默飛推出CIC在線燃燒離子色譜法，通過(guò)燃燒消除基質(zhì)影響，燃燒后的吸收液進(jìn)樣離子色譜檢測(cè)陰離子，殘?jiān)芙夂筮M(jìn)樣ICPMS檢測(cè)金屬離子，實(shí)現(xiàn)一樣兩用，對(duì)光刻膠樣品進(jìn)行全面分析。

對(duì)于貫穿整個(gè)生產(chǎn)工藝流程的潔凈室和微環(huán)境，賽默飛能為廢水、廢氣中的各項(xiàng)污染物提供準(zhǔn)確的分析解決方案，以及提供VOCs和污染離子的24小時(shí)在線監(jiān)測(cè)。

化學(xué)分析與檢測(cè)對(duì)集成電路生產(chǎn)非常重要，確保芯片生產(chǎn)質(zhì)量，改善良品率，賽默飛全線產(chǎn)品擁有應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體所有挑戰(zhàn)的技術(shù)。除了常規(guī)檢測(cè)外，還有多項(xiàng)賽家半導(dǎo)體獨(dú)門(mén)武藝蓄勢(shì)待發(fā)，如高分辨液質(zhì)聯(lián)用加持生產(chǎn)中未知物定量定性檢測(cè)、GDMS賦能靶材、高純硅中的雜質(zhì)檢測(cè)、半導(dǎo)體材料全面檢測(cè)方案等系列特色檢測(cè)方案，將在后續(xù)賽默飛賦能創(chuàng)“芯”系列文章中逐一道來(lái)，敬請(qǐng)期待！

長(zhǎng)按識(shí)別下方二維碼或點(diǎn)擊閱讀原文，進(jìn)入賽默飛色譜與質(zhì)譜半導(dǎo)體解決方案專題頁(yè)面。