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FPPLA-EMICON-MC-等離子體監(jiān)控系統(tǒng)
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  • 上海上海市

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  • 2024-08-01 03:48

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產(chǎn)品詳細(xì)

等離子體監(jiān)控系統(tǒng)采用等離子體光譜儀器制造離子體監(jiān)測(cè)系統(tǒng),適用于等離子體技術(shù)的幾乎任何應(yīng)用,包括等離子體分析、等離子體監(jiān)測(cè)和工藝you化。滿足生產(chǎn)線等離子體工藝的整體過(guò)程控制和質(zhì)量保證。


等離子體監(jiān)控系統(tǒng)特點(diǎn)

廣泛的測(cè)量數(shù)據(jù)采集

等離子體發(fā)射模塊與光纖光譜儀一起工作以高速連續(xù)采集從UV到NIR的等離子體光發(fā)射的光譜。這個(gè)HIPIMS/Pulse模塊允許對(duì)MHz范圍內(nèi)的電壓信號(hào)和層進(jìn)行觸發(fā)采樣控制模塊獲取生長(zhǎng)薄膜的反射光譜和/或透射光譜。此外,信號(hào)輔助傳感器可以通過(guò)模擬電壓輸入輸入。

實(shí)時(shí)監(jiān)控等離子體過(guò)程參數(shù)

從所獲取的發(fā)射數(shù)據(jù)中,可以選擇任意數(shù)量的等離子體線,持續(xù)監(jiān)控等離子體條件和成分。HIPIMS/Pulse模塊提供電壓以及來(lái)自脈沖切片的電流值,例如HIPIMS過(guò)程的峰值電流。這個(gè)層控制模塊基于寬帶光譜擬合來(lái)計(jì)算膜厚度,或者相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)顏色空間的顏色值。從模塊獲取的所有數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)導(dǎo)出,并且可以作為時(shí)間的函數(shù)顯示為所謂的監(jiān)視器軌跡從而實(shí)時(shí)提供過(guò)程狀態(tài)的全面畫面。

等離子體測(cè)量?jī)x典型應(yīng)用:過(guò)程監(jiān)控,探測(cè)等離子體蝕刻終點(diǎn),等離子體污染和泄露,


等離子體監(jiān)控系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)

工作類型:fieldbus 系統(tǒng)集成,實(shí)時(shí)過(guò)程監(jiān)控

光譜傳感器:200-1100nm

光譜通道:8個(gè)

光譜分辨率:1.5nm

動(dòng)態(tài)范圍:16bit

時(shí)間分辨率:1ms

采樣時(shí)間:250us~分鐘

數(shù)據(jù)存儲(chǔ):發(fā)射光譜,脈沖曲線,光譜層,信號(hào)傳感器



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