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   單道掃描ICP光譜儀Plasma1500可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

   

Plasma 1500可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

1、 大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng)，通光量大，分辨率高。

2、 可選配雙光柵，整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有高光譜分辨率。

3、 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過(guò)程，為用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。

   穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

   全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、效率高，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試，具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

   垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

   簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。

   具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

   實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，高性能以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊高效可靠。

   精密的光學(xué)系統(tǒng)

   Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)設(shè)計(jì)，使用大面積高刻線密度平面全息光柵，光路傳輸效率高，譜線質(zhì)量*。

   精密的波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)技術(shù)，1m光學(xué)系統(tǒng)焦距設(shè)計(jì)，具有優(yōu)異的波長(zhǎng)定位精度。

   雙光柵設(shè)計(jì)，整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有*光譜分辨率，國(guó)產(chǎn)新設(shè)計(jì)。

   搭載光學(xué)濾波器系統(tǒng)，根據(jù)波長(zhǎng)自動(dòng)切換，有效去除光譜干擾和降低光學(xué)噪聲。

   光室氣體氛圍保持、多點(diǎn)充氣技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測(cè)量。

   光室氣路獨(dú)立，可充氮?dú)饣驓鍤狻?br/>
   立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。

   進(jìn)樣系統(tǒng)

   儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于高鹽/復(fù)雜基體樣品等樣品的測(cè)試。

   使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護(hù)，轉(zhuǎn)換快速，使用成本低。

   使用高精密流量閥或質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。

   4通道12滾輪蠕動(dòng)泵，泵速連續(xù)可調(diào)，確保樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

   檢測(cè)器

   高靈敏度PMT檢測(cè)器,全譜段響應(yīng)，具有極寬的動(dòng)態(tài)范圍和極低的信號(hào)噪聲。

   選配紫外波段PMT檢測(cè)器，使得紫外波段譜線檢測(cè)能力得到極大提高。

   寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù)，提高樣品檢測(cè)能力，獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

   軟件系統(tǒng)

   人性化的界面設(shè)計(jì)，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無(wú)須復(fù)雜的方法開發(fā)，即可快速開展分析操作，簡(jiǎn)單易用。

   軟件譜線庫(kù)具有7萬(wàn)多條譜線庫(kù)，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。

   軟件支持標(biāo)準(zhǔn)曲線法、標(biāo)準(zhǔn)加入法等分析方法，具有扣除空白、內(nèi)標(biāo)校正、干擾校正等多種數(shù)據(jù)處理方法。輕松的測(cè)試方式設(shè)置，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示，具有多種報(bào)表輸出格式。

   Plasma1500采用高效穩(wěn)定的全固態(tài)射頻發(fā)生器，摒棄低效率的電子管時(shí)代，匹配速度快，確保儀器長(zhǎng)期高精度運(yùn)行。

   單道掃描ICP光譜儀Plasma1500技術(shù)參數(shù)：

   輸出功率：700W-1600W連續(xù)1W可調(diào)

   功率穩(wěn)定性：≤0.1%

   頻率穩(wěn)定性：≤0.01%

   匹配方式：自動(dòng)匹配

   電磁場(chǎng)泄露輻射強(qiáng)度：<0.5V/m

   進(jìn)樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

   炬管方向：垂直放置

   炬管：一體式炬管，中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)

   霧化器：同心霧化器或平行通道霧化器，外徑6mm,可選標(biāo)準(zhǔn)霧化器、高鹽霧化器、氫氟霧化器。

   霧室：旋流霧化室，可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。

   蠕動(dòng)泵：4通道12滾輪，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

   光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)：

   光柵刻線(選配)：

   2400g/mm

   3600g/mm

   4320g/mm

   雙光柵(4320g/mm+2400g/mm)

   分析譜線范圍：

   165nm-800nm2400g/mm

   165nm-550nm3600g/mm

   165nm-450nm4320g/mm

   焦距：1000mm

   光室恒溫：高精度恒溫35℃±0.1℃

   分辨率：

   ≤0.012nm2400g/mm

   ≤0.008nm3600g/mm

   ≤0.006nm4320g/mm

   檢測(cè)器技術(shù)參數(shù)：

   檢測(cè)器：高靈敏度PMT檢測(cè)器

   分析性能：

   觀測(cè)方式：垂直火炬

   檢出限：亞ppb-ppb

   短期穩(wěn)定性：RSD≤0.75%(500LOD)

   長(zhǎng)期穩(wěn)定性：RSD≤1.25%(500LOD)

   儀器規(guī)格

   尺寸：寬x深x高(159cmx65cmx75cm)

   重量：約200kg

   工作環(huán)境

   實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度20%~80%

   氬氣純度：不小于99.95%

   排風(fēng)：不小于400立方米/小時(shí)

   電源：200V~240VAC單相；50Hz~60Hz；4kVA