X射線熒光光譜儀技術(shù)原理及優(yōu)勢
X射線熒光光譜儀簡稱XRF,是一種具有快速、無損、多元素同時分析、操作簡單、使用成本較低的檢測儀器,在冶金、水泥、礦石、石油、化工、醫(yī)療、土壤、塑料、RoHS、首飾、鍍層等多個領(lǐng)域和行業(yè)發(fā)揮著重要作用。下面和一六儀器一起了解X射線熒光光普儀技術(shù)原理及優(yōu)勢。
X射線熒光光譜儀由X射線發(fā)生器、探測器、輔助控制系統(tǒng)、工控電腦及其內(nèi)置的專用算法軟件系統(tǒng)組成。
在高壓電源產(chǎn)生高電壓的情況下,X射線管內(nèi)的高速電子流激發(fā)到金屬靶材上產(chǎn)生初級X射線,通過準直和濾光后激發(fā)到樣品表面,樣品內(nèi)的原子核外電子產(chǎn)生躍遷,躍遷的能量即為二次X射線,又稱特征譜線。每種元素的特征譜線的波長和能量均不相同,在經(jīng)過特定的光電探測器檢測后,轉(zhuǎn)換為不同高度的脈沖信號,這些信號經(jīng)過特殊的信號處理之后,就可以得到計算機軟件能識別的光譜譜形,最后經(jīng)過FP算法處理計算,即可得到成分和鍍層厚度的分析結(jié)果。
X射線熒光光譜儀優(yōu)勢:
1)搭載微聚焦加強型X射線發(fā)生器和*的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng);
2)擁有無損變焦檢測技術(shù),手動變焦功能,可對各種異形凹槽件進行無損檢測,凹槽深度范圍0-30mm;
3)核心EFP算法,可對多層多元素,包括同種元素在不同層都可快、準、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB,精準檢測一層Ni和第三層Ni的厚度);
4)配備高精密微型移動滑軌,可實現(xiàn)多點位、多樣品的精準位移和同時檢測;
5)可同時分析23個鍍層,24種元素,測量元素范圍:氯Cl(17)- 鈾U(92),涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)- 鈾U(92),涂鍍層檢出限:0.005μm;
6)人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作;
7)配有微光聚集技術(shù),最近測距光斑擴散度10%;
以上就是一六儀器整理分享的關(guān)于X射線熒光光譜儀技術(shù)原理及優(yōu)勢。想了解更多相關(guān)資訊,歡迎持續(xù)關(guān)注。
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